内衬是置于反应腔体内的核心零件，比反应腔更接近晶圆反应过程，是工艺零部件中对洁净度、耐腐蚀度要求最高的产品之一。由于不同内衬应用于不同制程的设备（公司部分内衬产品应用于 7 纳米制程工艺设备），价格区间波动较大，在 1-5 万元之间。内衬产品体积和耗用材料居中

刻蚀 腔体 刻蚀设备 内衬 腔体内衬 2025-10-30 23:14  3

中信证券发布研报称，预计，至少以下三方面的技术趋势将推动刻蚀设备的用量和重要性提升：(1)光刻多重图案化路线的采用，(2)三维堆叠存储和近存计算需求，(3)底层晶体管结构升级。长期看，半导体设备国产化方向明确。短期来看， 2025年国内半导体晶圆厂投资表现相对

半导体 刻蚀 中信证券 半导体设备 刻蚀设备 2025-09-22 09:16  4